8月22日獲悉，大連理工大學趙紀軍教授與澳大利亞伍倫貢大學杜軼研究員等合作，在硅烯材料的氧化和單原子層剝離方面取得重要突破，成功利用氧分子做為“化學剪刀”，將硅烯原子層從金屬基底上剝離，為硅烯器件研究提供了解決方案。
硅烯材料性能優越
硅烯是由硅原子組成的單層原子晶體，除了具有和石墨烯一樣超高電子傳輸速率、極薄以及透明柔軟特性之外，其能隙更易于打開和調控。科學家預言硅烯是最合適制作下一代高性能低能耗晶體管的理想電子材料之一，它的應用將掀起新一輪的電子設備革命。
硅烯材料面臨的挑戰
硅烯在由實驗室走向工業化應用的道路上依然面臨著很多的困難。最大的挑戰在于：如何將硅烯原子層從金屬基底上剝離，進行后續的器件加工。2014年起，由中國和澳大利亞多個課題組組成的一個聯合研究團隊，對這一世界難題展開技術攻關。該團隊由澳大利亞伍倫貢大學杜軼課題組、大連理工大學趙紀軍課題組、中科院物理所吳克輝課題組、中科院高能物理所王嘉鷗課題組所組成。中澳聯合研究團隊提出了利用活性氣體分子做為“手術刀”將外延生長的硅烯從金屬基底上剪切下來的實驗方案，并最終確定利用氧分子做為“化學剪刀”插入了外延的硅烯和金屬基底之間，成功將硅烯從金屬基底上剝離，首次得到了準自由硅烯單層的原子結構像、電子能帶結構以及聲子特征譜等一系列極其重要的信息，并通過理論計算還原了氧分子剪裁剝離硅烯的整個過程。這一突破，為未來硅烯器件的研發提供了重要的科學和技術基礎。
據了解，相關科研成果發表在《科學》雜志子刊《科學進展》上，并引起國際科技媒體的關注。
（中華試劑網 www.yexingcc.com）